В создании полупроводниковых приборов и ИМС большое внимание уделяется термическим процессам. Для обеспечения воспроизводимости и качества этих процессов важно выбрать подходящее оборудование, обладающее оптимальными техническими характеристиками для проведения и контроля термических операций. Печи быстрого обжига производства немецкой компании Unitemp GmbH, которая более 15 лет занимается разработкой и производством оборудования для термических процессов, как нельзя лучше подходят на эту роль.
Ключевыми особенностями печей Unitemp являются надежность, высокое качество, эргономичный дизайн, простота эксплуатации, широкий набор опций, а также возможность изготовления специальных систем в соответствии с особыми требованиями заказчика.
Печи быстрого обжига предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек размером до 300 мм. Максимальная температура нагрева данных печей составляет 1200 C˚. В качестве нагревательного элемента в печах быстрого обжига RTP и VPO используются инфракрасные лампы, которые позволяют обеспечить максимальную скорость нагрева до 150 K/с. Данные печи позволяют проводить термические процессы в вакуумной (до 10-6 милибар) и газовой среде (азот, кислород, N2H2, аргон, опционально H2). Для управления используется встроенный контроллер Simatic SPS с сенсорным экраном. Данный контроллер позволяет сохранять до 50 программ термической обработки в памяти системы и неограниченное количество программ на USB-накопитель.
Рис.1. Внешний вид высокотемпературных печей Unitemp
